產品介紹

型號 ID：AFM - HSIHWA

★流體拋光機-突破傳統加工模式以擠壓流動方法,針對異形、不規則表面及內孔或細縫、微孔工件達到鏡面拋光及去毛邊效果。
★流體拋光技術是採用最新研磨拋光工法，可依照各種不同技術要求，做細部研磨處理。亦可依不同材質特性及前製處理狀況達到鏡面拋光最終目標或解決表面處理附著困難問題。
★其原理為以軟性樹脂+高流動性液態膠後依研磨或拋光需求選擇加入研磨顆粒。製成一種非常特殊軟性流動磨料具有流動性及包覆高含量研磨粉特性下以上下運動方式通過工件表面。
★在AFM拋光方式是將工件置於機器工件檯面，以治具夾持後機器上方磨料鋼及固定座以油壓缸向下緊密固定後，中間上下磨料缸將磨料充滿後；下方往上方是流動到達頂部後再由上往下流動。以此上下往復運動方式,在選擇流動次數及流動量達到拋光效果。

HSIHWA 自行研發生產特殊研磨拋光軟性材料；原料由歐美進口台灣生產製造。具有〝高流動性〞〝均勻研磨拋光表面〞〝鏡面處理效〞〝良好結合性〞等優點。

※ 高流動性： 磨料可依孔徑及工件大小(0.1mm~500mm)需求選擇軟硬不同流動性膠料。

硬 N05： 約80度左右(橡膠硬度)適合大孔鑄造汽配工件。
中硬 N04： 約60度左右(橡膠硬度)用於大型模具沖壓件。
中 N03： 約40度左右(橡膠硬度)鎢鋼模具、針織零件。
軟 N02： 約10-15度左右(橡膠硬度)去毛邊用途、研磨內孔拋光。
特軟 N01： (液態狀) 細孔、細縫、噴油嘴、半導體工件。

※ 均勻研磨拋光表面 ： 磨料顆粒可選用金剛砂、碳化硼高切削性效果達到快速研磨、拋光ˋ 去毛邊、倒角效果。
顆粒大小 可提供目數#8 (平均約4.62mm) 到 目數#1200 (0.015mm)達到不同效果。

※ 鏡面處理效果：HSI HWA運用特級鑽石顆粒及特殊拋光粉 可拋光特殊工件並達到鏡面之效果。

M03 ： 針對鎢鋼工件可拋光去除量25~40um表面亮度可達Ra0.08um。
F02 ： 精密模具連續沖模高精度要求工件，表面處理拋光最高可達Ra0.04um面粗度,去除量約10um

※ 超級結合效果：磨料以高精密設備生產其結合性可達百分之百；磨料高含有量,可依應用需求達90%以上研磨粉具有節省成本及快速加工效果,非一般低含有量普通樹脂。
高濃度可加快切削力較一般磨料拋光速度快。
良好結合性其壽命較一般磨料長且不易沉澱。